구분

파크시스템스

한미반도체

프로텍

코세스

제너셈

넥스틴

적용 순이익

35,132,300,340

202,936,214,200

26,185,674,460

7,137,321,920

8,491,592,410

44,300,171,730

적용 주식수

6,963,299

97,339,302

11,000,000

16,584,962

8,769,174

10,196,878

주당순이익(EPS)

5,045

2,085

2,381

430

968

4,344

기준주가

175,800

45,600

42,700

10,836

13,610

77,300

PER

34.84

21.87

17.94

25.18

14.05

17.79

적용 PER

21.95

구 분

산출내역

비 고

2025년 추정 당기순이익 (A)

12,544 백만원

​

연 할인율

25%

​

2025년 추정 당기순이익 현가 (B)

7,181 백만원

B = A / (1.25^2.5)

적용 주식수 (C)

7,874,611 주

​

2023년 반기말 기준 주당순이익 (D)

912 원

D = B / C

적용 PER (E)

21.95 배

-

주당 평가가액 (F)

20,013 원

F= D X E

종목명(EPS)

23년 2분기기준 최근4분기

실적 적용 기준주가(PER)

09.14 종가(PER)

파크시스템스(5,045)

175,800(34.84)

186,000(36.87)

한미반도체(2,085)

45,600(21.87)

53,800(25.80)

프로텍(2,381)

42,700(17.94)

52,900(22.22)

코세스(430)

10,836(25.18)

11,230(26.12)

제너셈(968)

13,610(14.05)

13,930(14.39)

넥스틴(4,344)

77,300(17.79)

75,500(17.38)

적용 평균 PER

(21.95)

(23.80)

주당 환산 EPS

912

주당평가액

20,013원

21,702원

구분

2023년 반기

2022년

2021년

2020년

회계기준

(감사의견)

K-IFRS

(검토)

K-IFRS

(적정)

K-IFRS

(감사받지 아니한 재무제표)

매출액

4,114

10,757

7,328

6,009

매출총이익

1,614

4,063

2,610

2,488

영업손익

(739)

254

(668)

(241)

법인세비용 차감전순손익

(611)

(978)

(614)

(1,185)

당기순손익

(630)

(430)

(648)

(1,153)

구분

2023년 반기

2022년

2021년

2020년

당사

업종평균(주)

자산총계

14,021

15,003

15,975

-

14,872

부채총계

7,171

7,425

12,988

-

11,126

자본총계

6,849

7,577

2,987

-

3,747

총차입금

3,300

4,195

4,709

-

4,959

유동비율

187.1%

196.9%

91.2%

154.0%

117.6%

부채비율

104.7%

98.0%

434.8%

109.0%

297.0%

차입금의존도

48.2%

55.4%

157.6%

29.7%

132.4%

당좌비율

147.0%

156.6%

69.1%

111.8%

101.5%

구분

내역

2024년

2025년

2026년

합계

연구개발

EUV Mask용 레이저 응용 장비 고도화 개발

1,700

1,000

-

2,700

EUV Mask Thin Film Metrology 개발

400

1,200

1,200

2,800

반도체 웨이퍼 레이저 건조 장비 개발

500

500

500

1,500

Burn In Board CO2 세정 장비 개발

500

500

-

1,000

초고순도 CO2 세정 장비 개발

200

400

400

1,000

기술개발 인력 충원

1,500

1,500

750

3,750

시설자금

본사 공장 부지매입

4,200

-

-

4,200

본사 공장 등 건축

-

1,000

1,400

2,400

Clean Room 반도체 공정 장비 test 전용 (Class 100)

-

-

500

500

Clean Room 일반 공정 장비 test 전용 (Class 10000)

-

-

150

150

운영자금

ERP 및 그룹웨어 시스템 내부회계관리 고도화 개발

500

-

-

500

영업 및 마케팅 분야 등 우수 인력 충원

420

420

70

910

합계

9,920

6,520

4,970

21,410

평가등급

평가의견 요약

AA

- 총평

ㆍ㈜아이엠티(이하, 당사)는 반도체 및 디스플레이 제조용 기계 제조를 목적으로 설립된 소기업으로, 최재성 대표가 2000년 11월 23일에 설립하였으며, 현재 경영전반을 총괄하고 있는 최재성 대표(CEO), 최종립 사장, 이종명 연구소장, 이해광 부사장, 임재원 부사장, 조성호 상무 등이 상근인력으로 근무 중에 있음

ㆍ당사의 핵심기술은 레이저 세정 장비 기술, CO2 세정 장비 기술 및 EUV Mask용 레이저 베이킹 장비 기술임.

ㆍ당사 핵심기술의 기술성은 기술의 완성도, 기술의 경쟁우위도, 기술인력의 수준, 기술제품의 상용화 경쟁력 등을 고려할 때 우수한 수준으로 판단되며, 당사 핵심기술의 시장성은 기술제품의 시장규모 및 성장잠재력과 기술제품의 경쟁력을 고려할 때 상당히 양호한 수준으로 판단됨.

ㆍ당사는 기술사업화 역량이 우수하며, 사업부실화 가능성이 낮고 시장성도 상당히 양호한 수준으로 AA 등급으로 최종의견을 제시함.

​

- 기술성

ㆍ평가대상 기술제품은 레이저 세정 장비, CO2 세정 장비 및 EUV Mask 레이저 베이킹 장비임.

ㆍ평가대상 기술 중 레이저 세정 기술의 경우, 레이저의 직진성과 짧은 레이저 펄스의 특징으로 정밀한 오염층 제거가 가능하며 기계적인 힘이 모재에 가해지지 않는 비접촉식 세정기술로 모재에 마모가 발생하지 않으며, 공정이 단순하고 제어가 쉬우며 폐액과 폐기물이 발생하지 않고 증발되기 때문에 환경 친화적인 세정기술로 최근 트렌드인 ESG 경영에 적합한 세정기술임.

ㆍ평가대상 기술 중 CO2 세정기술은 CO2 가스를 고속 분사하여 형성된 초미세 드라이아이스 입자를 고압고속으로 분사하여 모재 표면에 붙어 있는 오염물과 충돌시켜 충격력에 의해 오염물을 제거하는 기술임. 초미세 드라이아이스 입자를 형성시키기 위해서는 CO2 가스를 액화시키고 이를 미세하면서 균일하게 분사될 수 있도록 분사노즐 디자인이 중요하며, 초미세 드라이아이스 입자 크기를 일정하게 유지할 수 있어 오염물 제거 후 모재에 미소 입자의 지속적인 충돌로 모재 표면의 손상을 방지할 수 있음.

ㆍ평가대상 기술 중 EUV mask 베이킹 기술은 레이저 세정기술과 같이 레이저 빔을 EUV mask 패턴에 조사하여 패턴의 모서리 거칠기(Line Edge Roughness, LER)와 패턴 폭 변위(Line Width Roughness, LWR)을 줄여줌으로써 EUV 노광으로 형성된 패턴을 선명하게 만들어 공정 품질을 향상시킬 수 있음.

ㆍ국소 부위를 선택적으로 세정이 가능한 기술인 레이저 세정기술과 CO2 세정기술은 양산에 가장 적합한 기술로 타 습식/건식 세정기술과 확실한 차별화를 보여주고 있으며 EUV 공정과 첨단 패키지 공정을 대표로 다양한 분야에 필수적인 세정기술에 적합함을 보여주고 있음.

ㆍ평가대상 기술제품은 반도체 여러 양산공정에 응용될 수 있으며 특히 EUV 공정과 같이 최신 공정에서 양산 평가를 받고 있으므로 기술의 경제적 수명이 상당히 장기로 예상할 수 있음. 또한 반도체 대상으로 개발한 세정기술은 바이오, 식품 등의 인간 필수 산업에도 확장할 수 있어 기술의 경제적 수명은 장기적임.

ㆍ레이저와 CO2 세정 핵심 요소기술과 세정장비 자체 제작 기술 확보는 가격, 성능, 품질 경쟁력에 확실한 우위를 보여주고 있음. 특히 EUV 마스크 베이킹 기술은 양산화에 적용될 가능성이 높아 파급효과가 큰 기술이며 현재 직접적인 경쟁제품은 존재하지 않음.

ㆍ당사는 노하우로 보호하는 기술외에는 적극적으로 특허를 출원하여 지식재산권을 확보하되, 핵심 특허에 대하여는 청구항 작성시 주의를 기울여 경쟁사의 회피설계를 통한 특허 무력화를 방지할 필요가 있음.

​

- 시장성

ㆍ당사의 기술제품은 반도체 및 디스플레이용 레이저 세정장비임. 당사가 개발한 레이저 세정기술 제품의 시장성은 매우 유망하다고 판단되며, 특히 당사가 가장 주력하고 있는 반도체 시장에서 전반적인 기술개발의 방향성을 고려하면 향후 레이저 세정기술의 상업적 가치는 계속 커질 것으로 판단됨.

ㆍ반도체 산업은 5Gㆍ자율주행ㆍ사물인터넷(IoT)ㆍ인공지능(AI) 발달에 따른 반도체 수요 확산으로 성장세가 지속되고 국내외 반도체 제조 장비 시장 규모도 성장할 것으로 전망됨.

ㆍASTI MARKET INSIGHT 보고서에 의하면, 세계 반도체 제조 장비 시장은 2020년 624억 달러에서 2025년까지 연평균 9.0%의 성장률로 증가하여, 2025년에는 959억 달러에 이를 것으로 예상되며, 반도체 제조역량의 대부분이 아시아에 집중되어 있음.

ㆍGartner 시장보고서에 의하며, 평가대상 기술제품인 세계 세정 장비 시장은 2019년 15,910백만 달러(약 19조 1,079억원) 수준이며 연평균 7.01% 성장하여 2023년 21,342백만 달러(약 25조 6,317억원)규모가 전망되며, 동일한 성장율로 2024년 22,322백만달러(26조 8,087억원)의 시장규모를 형성할 것으로 전망되고, 국내 세정 장비 시장은 2019년 3조7,966억원 수준이며 연평균 7.01% 성장하여 2023년 6조 9,334억원 규모가 전망되며, 동일한 성장률로 2024년 7조 1,823억원의 시장 규모를 형성할 것으로 전망됨. 이와 같이 당사의 시장규모는 우수한 수준으로 판단.

ㆍ본 평가대상 기술제품인 레이저 세정장치의 경쟁업체를 보면, 레이저 세정장치는 국내시장은 현재 없는 상황이고 해외시장에서 독일 Clean Laser, 벨기에 P-Laser가 있음. Clean Laser는 독일 비상장회사로 주요 적용사례는 자동차 및 항공기 제조 중에 사용되는 금속 세정, 각종 금속 및 석재 세정, 페인트 제거, 금형 세정 등의 금속/자동차/항공기 산업에 주력하고 있고, 반도체/전기/전자 산업에 적용한 사례는 없음. P-Laser는 벨기에 비상장 회사로, 이동형 레이저 장비로 각종 금속 세척, 녹 제거, 금형세정 등의 일반 산업 분야에 공급하고 있으며, 주요 적용 사례는 금속/자동차/선박 제조등에 적용하고 있을 뿐 반도체/전자/전기 산업에 적용 사례는 없음.

ㆍ본 평가대상 기술제품인 CO2 세정 장치의 경쟁업체를 보면, 국내 시장은 현재 없는 상황이고, 해외시장은 독일의 ACP, 미국의 Cool Clean이 있음. ACP는 독일 비상장 회사로 주요한 적용 분야는 플리스틱 표면 세정으로 자동차 범퍼 및 각종 내장재의 도장 전 세정에 주력하고 있고, 금속 세정 등에도 적용 사례가 있음. Cool Clean은 미국 비상장 회사로 각종 플라스틱 표면 세정, CO2 고압 용기 제작, 금속 표면 세정, PCB 세정 등의 적용 사례가 있음.

ㆍ이와 같이 반도체, 디스플레이 및 이차전지 산업 분야에서 집중 성장이 예상되며 목표시장에서 국내 선도업체가 없는 상황이기 때문에 사업화 경쟁력은 높아 보임.

ㆍ현재, 주요 판매처 현황을 보면 레이저 세정장비는 TSMC외 외주업체, 삼성전자향 코미코, LG엔솔 국내업체, Amkor, Sandisk이며, CO2 세정장비는 LGIT/Sharp, BHST 등이며, EUV Mask용 레이저 Baking은 삼성전자 Mask Shop임. 당사는 반도체 및 디스플레이용 등에 차별화된 레이저 세정장비, CO2 세정장비 제공으로 국내 주도기업이 없는 상황에서 시장선점이 유리할 것으로 예상됨. 이상을 종합할 때 당사의 시장지위는 시장은 보통 미만의 경쟁시장으로 시장진입이 다소 용이한 것으로 판단됨.